Ion Implantation
یک روش تغییر سطحی است که در آن به کمک پرتاب، یک عنصر در سطح یک مادّه نشانده می شود. عمده مزیّت این روش آن است که خواص سطحی آن مادّه اولیه بهبود می یابد و این در حالی است که خواص اصلی مجموعه ثابت می ماند.از این روش جهت بهینه سازی اصطکاک سطحی سیم های بتا تیتانیوم استفاده می شود.
نام نویسنده:
منابع:
Daskalogiannakis J. Glossary of Orthodontic terms. Berlin: Quintessence Publ. 2000, page149